“一種對熒光粉表面進(jìn)行納米包覆的低熱固相方法”獲國家發(fā)明專利授權(quán)

    “一種對熒光粉表面進(jìn)行納米包覆的低熱固相方法” 的發(fā)明專利，近日獲得了國家知識產(chǎn)權(quán)局授權(quán)該專利由中科院長春應(yīng)用化學(xué)研究所的劉桂霞和洪廣言等科研人員發(fā)明。

    （Y,Gd）BO₃:Eu³⁺，Y₂O₃:Eu³⁺和Gd₂O₃:Eu³⁺是三基色熒光粉中重要的紅粉，被廣泛地應(yīng)用于平板顯示和彩色電視等領(lǐng)域，然而，未經(jīng)表面處理的熒光粉往往因環(huán)境因素和發(fā)光材料本身性質(zhì)的影響而存在團(tuán)聚、表面缺陷和化學(xué)性能不穩(wěn)定的現(xiàn)象，因此，導(dǎo)致熒光粉制漿時分散性很差和使用時發(fā)光效率降低。熒光粉包覆SiO₂和Al₂O₃等氧化物可以使熒光粉與外界環(huán)境隔離，能夠很好地解決上述問題，同時還可以改善熒光粉的表面性質(zhì)和發(fā)光性能。熒光粉包覆層的厚度和均勻性是其關(guān)鍵，若包覆層太厚，也會導(dǎo)致發(fā)光性能下降；若包覆的不均勻可能出現(xiàn)包覆層自身團(tuán)聚的現(xiàn)象，因此，熒光粉表面進(jìn)行納米級厚度的包覆層是一個很好的選擇。采用液相法和化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行納米級包覆的文獻(xiàn)和專利已有報道，并取得了較好的效果。然而，液相法和化學(xué)氣相沉積法均存在工藝復(fù)雜的問題，同時液相法還可能導(dǎo)致包覆過程中熒光粉的降解。為了解決傳統(tǒng)濕法進(jìn)行熒光粉表面包覆時易團(tuán)聚和易潮解等導(dǎo)致分散性差和發(fā)光效率下降的問題，以及克服氣相反應(yīng)法工藝復(fù)雜難控制的弱點和厚的包覆層對發(fā)光強度的影響的缺點，本發(fā)明專利提供了一種對熒光粉表面進(jìn)行納米包覆的低熱固相方法，并采用該法分別在（Y,Gd）BO₃:Eu³⁺熒光粉表面包覆上納米級Fe₂O₃，在Y₂O₃:Eu³⁺和Gd₂O₃:Eu³⁺熒光粉表面包覆上納米級SiO₂和Al₂O₃。

    該發(fā)明具有工藝簡單，操作方便，污染少，包覆后熒光粉的分散性、發(fā)光效率、色純度得到提高等優(yōu)點。

                                                                                (張吉林)