高分子薄膜去潤(rùn)濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑取得系列成果

有序圖案構(gòu)筑與響應(yīng)功能是材料科學(xué)、信息科學(xué)和生命科學(xué)等多學(xué)交叉的新方向。高分子微納圖案化不僅能夠滿足微加工技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)的要求，而且具有突出優(yōu)勢(shì)。因此，被認(rèn)為是未來(lái)發(fā)展不依賴于傳統(tǒng)刻蝕技術(shù)的微加工技術(shù)的新方向。高分子薄膜去潤(rùn)濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑是一種"自下而上"制備大面積圖案的有效方法。

中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春應(yīng)化所高分子化學(xué)與物理國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室韓艷春課題組圍繞“高分子薄膜去潤(rùn)濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑”這一重要主題展開(kāi)了多年研究，取得了系列研究成果。近期，該課題組為高分子權(quán)威綜述雜志《高分子科學(xué)進(jìn)展》（Longjian Xue and Yanchun Han, Pattern formation by dewetting of polymer thin film, Progress in Polymer Science， 2011, 36 (2), 269-293）撰寫(xiě)了相關(guān)綜述。

綜述系統(tǒng)介紹了高分子薄膜去潤(rùn)濕機(jī)理，然后從理論和實(shí)驗(yàn)兩方面就高分子薄膜去潤(rùn)濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑展開(kāi)了廣泛而深入的討論，包括物理、化學(xué)圖案化基底誘導(dǎo)的去潤(rùn)濕圖案化、物理受限條件下的去潤(rùn)濕圖案化、薄膜表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)誘導(dǎo)的去潤(rùn)濕圖案化和三相線運(yùn)動(dòng)過(guò)程誘導(dǎo)的去潤(rùn)濕圖案化等。最后就高分子薄膜潤(rùn)濕誘導(dǎo)圖案化技術(shù)與其他技術(shù)的交叉結(jié)合以及應(yīng)用進(jìn)行了深入討論，并對(duì)高分子薄膜去潤(rùn)濕誘導(dǎo)有序圖案構(gòu)筑的未來(lái)發(fā)展進(jìn)行了展望。